用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，家具鍍鈦電話(huà)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

由于該工藝過(guò)程具有炸性質(zhì)，并可形成液化金屬的液滴，因此可能導致涂層表面粗糙。引入反應氣體從而形成化合物2)濺射（電離度低）：濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過(guò)程。在薄膜涂層中，真空鍍鈦電話(huà)，這是通過(guò)加速朝向固體靶材的ya離子，使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來(lái)實(shí)現的。通過(guò)在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國內外技術(shù)對比分析：①整體差距：調查資料顯示：目前，國外PVD涂層行業(yè)的生產(chǎn)設備一般技術(shù)力量雄厚，工藝裝備精良，鍍鈦電話(huà)，檢測手段齊全，并擁有全國先進(jìn)的大噸位及配套生產(chǎn)設備，具有較強的生產(chǎn)能力。

熱鍍基板可以是熱軋也可以是冷軋基板，一些外貿詢(xún)單中會(huì )用HX或HC這種簡(jiǎn)稱(chēng)來(lái)代指熱軋基板或是冷軋基板。這是源自歐標牌號的命名規則，專(zhuān)業(yè)鍍鈦電話(huà)，當然是不太規范的。

此外，在某些行業(yè)中，GI常被用來(lái)代指熱鍍純鋅鍍層、GA代指熱鍍鋅鐵鍍層、ZAM代指鋅鎂鍍層。

主流的熱鍍鍍層分為六大類(lèi)，分別是：

1、熱鍍純鋅（Z）

2、熱鍍鋅鐵合金（ZF）

3、熱鍍鋅鋁（ZA）

4、熱鍍鋁鋅（AZ）

5、熱鍍鋁硅（AS）

6、熱鍍鋅鎂（ZM）